目前使用的Parylene主要有Parylene N，Parylene C和Parylene D三种，其共同点是高度惰性与高纯度，而每一种型号又有各自不同特点：Parylene N 具有很高的击穿强度，同时具有与频率无关的低介电常数；Parylene C提供了的电气特性和物理特性的组合，派瑞林纳米镀膜技术，包括潮热环境和腐蚀性气体环境下的低渗透率；Parylene D 通过高温下优良的物理和电性能改善了热稳定性。Parylene HT是具备上述三种材料优点的一种组合材料。下面主要以 Parylene N和 Parylene C为例，介绍 Parylene的主要特性。

       PVD是物理气相沉积的简称，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上真空镀膜。利用物理过程实现物质转移，在工件表面形成具有特殊性能的金属或化合物涂层，其特殊性能包括强度高、耐磨性、散热性、耐腐性、以及绝缘等。涂层的物质源是固态物质，利用气体放电或加热的方式使靶材蒸发或者电离，派瑞林纳米镀膜，经过“蒸发或者溅射”后，在电场的作用下，在工件表面生成与基材性能不同的固态物质涂层。

       在日常的操作中，有些用户由于其操作不当导致镀膜效果欠佳的问题，在PVD真空镀膜过程中，镀膜机腔体内的压力波动将导致镀膜不均匀以及重复性欠佳。质量流量控制器控制反应气体的同时，青岛派瑞林纳米，采用压力控制器控制腔体内惰性气体的压力，从而提升终等离子气相沉积(PVD)的结果。

PECVD(Pulse Enhanced Chemical Vaporized Deition，电浆辅助化学气相沉积)工法并配合密闭抽真空设备，所以纳米等级的涂层颗粒可以顺着整机产品的微小缝隙飘进并附着于整机产品内部的大多数角落位置，也因为涂层的缝隙比水分子还小，所以可以起到隔绝湿气对电子产品的影响。另外，派瑞林纳米分子镀膜，由于涂层的厚度大概有5-50nm，弹簧类零件（如连接器）只要经过摩擦就可以轻易的刮除这些涂层，达到电气接触的目的。

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