动态功能：一个有效的防尘圈，其唇口相对于活塞杆的接触力必须足够大。有相当高硬度的弹性材料易得到这种效果。硬度达94°的聚胺醋是特别适用于防尘圈的材料。其特性还包括高模量(硬度)，的耐磨性及低压缩性。这种材料可以应用在从-40°到100°温度范围的绝大多数应用场合。

　    静态功能：设计用于封闭式安装沟槽的无增强的单作用防尘圈，长三角派瑞林镀膜加工涂层，很难在沟槽中起到有效的密封作用。这是由于这种防尘圈在沟槽中是松配合安装的。只有密封唇与活塞杆的接触提供防尘圈与圆柱形表面的密封力。温度降低时，整个防尘圈收缩，其外径与沟槽之间的泄漏风险就会出现。要取得满意的效果，这种情况必然在防尘圈的设计中加以补偿。

1）沉积反应如在气固界面上发生则沉积物将按照原有固态基底（又称衬底）的形状包覆一层薄膜。

2）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而改变从而获得梯度沉积物或得到混合镀层。

3）采用某种基底材料，长三角led派瑞林涂层种类，沉积物达到一定厚度以后又容易与基底分离，这样就可以得到各种特定形状的游离沉积物器具。

4）在CVD技术中也可以沉积生成晶体或细粉状物质，或者使沉积反应发生在气相中而不是在基底表面上，这样得到的无机合成物质可以是很细的粉末，甚至是纳米尺度的微粒称为纳米超细粉末。

5）CVD工艺是在较低压力和温度下进行的，通过派瑞林镀膜技术可增强材料断裂强度和抗震性能是在较低压力和温度下进行的。

       考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，派瑞林，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，对需要大离子流量的用户可能不适和。

       霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。

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